Why ASML Is Racing to Build 110 EUV Machines

Source: https://semiwiki.com/lithography/373646-why-asml-is-racing-to-build-110-euv-machines/

ASML is exploring how to produce more than 110 extreme ultraviolet lithography machines in 2028, reflecting the extraordinary investment flowing into artificial intelligence infrastructure. The Dutch semiconductor-equipment company expects to manufacture at least 80 EUV systems in 2027 and is considering another production increase of approximately 30 percent the following year. Although the 2028 figure remains a capacity scenario rather than a firm production commitment, the scale of the proposal shows how quickly demand for advanced chipmaking equipment is accelerating.

ASML은 인공지능(AI) 인프라로 유입되는 막대한 투자를 반영하여, 2028년에 110대 이상의 극자외선(EUV) 노광 장비를 생산하는 방안을 검토하고 있습니다. 이 네덜란드의 반도체 장비 기업은 2027년에 최소 80대의 EUV 시스템을 제조할 것으로 예상하며, 그 다음 해에 약 30퍼센트의 추가 생산량 증가를 고려하고 있습니다. 2028년 수치는 확정된 생산 약속이라기보다는 생산 능력 시나리오에 가깝지만, 이러한 제안의 규모는 첨단 칩 제조 장비에 대한 수요가 얼마나 빠르게 가속화되고 있는지를 보여줍니다.

EUV lithography is essential for manufacturing the world’s most sophisticated semiconductors. The technology uses extremely short-wavelength light to print remarkably small circuit patterns onto silicon wafers. These patterns form the transistors and interconnections inside advanced processors, graphics chips, and memory products. ASML is the only company commercially supplying EUV lithography systems at scale, making its production capacity a critical constraint on how rapidly the semiconductor industry can expand leading-edge manufacturing.

EUV 노광 기술은 세계에서 가장 정교한 반도체를 제조하는 데 필수적입니다. 이 기술은 극도로 짧은 파장의 빛을 사용하여 실리콘 웨이퍼에 놀라울 정도로 작은 회로 패턴을 새깁니다. 이러한 패턴들은 첨단 프로세서, 그래픽 칩, 메모리 제품 내부의 트랜지스터와 상호 연결을 형성합니다. ASML은 상업용 규모로 EUV 노광 시스템을 공급하는 유일한 기업으로, 반도체 산업이 최첨단 제조 공정을 얼마나 빠르게 확장할 수 있는지를 결정하는 핵심 제약 요소가 바로 ASML의 생산 능력입니다.

The immediate driver is AI. Training and operating increasingly capable AI models requires enormous quantities of computing power. Companies building AI infrastructure need advanced accelerators, while those processors depend on leading-edge foundry capacity and high-bandwidth memory. Both advanced logic and modern memory production require increasingly intensive use of lithography. ASML has said its logic business is benefiting from foundries adding capacity for new process nodes, while demand for high-bandwidth memory and DDR5 is supporting growth in its memory business.

직접적인 원동력은 AI입니다. 점점 더 뛰어난 성능을 갖춘 AI 모델을 학습하고 운영하는 데는 엄청난 양의 연산 능력이 필요합니다. AI 인프라를 구축하는 기업들은 첨단 가속기가 필요하며, 이러한 프로세서는 최첨단 파운드리 생산 능력과 고대역폭 메모리에 의존합니다. 첨단 로직 및 최신 메모리 생산 모두 노광 기술의 사용을 점점 더 집약적으로 요구하고 있습니다. ASML은 로직 사업 부문이 새로운 공정 노드를 위해 생산 능력을 확충하는 파운드리들의 수혜를 입고 있으며, 고대역폭 메모리(HBM) 및 DDR5에 대한 수요가 메모리 사업 부문의 성장을 뒷받침하고 있다고 밝혔습니다.

According to a Reuters report, ASML was already nearly fully booked for 2027, with many newer orders intended for delivery in 2028. JPMorgan analysts said the principal limitation was the speed at which ASML could assemble EUV systems rather than shortages throughout its supplier network. That distinction matters: improving assembly throughput may be more manageable than rebuilding an entire supply chain, although producing these extraordinarily complex machines still requires careful coordination with specialist suppliers.

로이터 통신 보도에 따르면, ASML은 이미 2027년 물량이 거의 완전히 예약되었으며 다수의 신규 주문은 2028년 인도를 목표로 하고 있습니다. JP모건 애널리스트들은 주요 한계가 공급망 전반의 부품 부족이라기보다는 ASML이 EUV 시스템을 조립하는 속도에 있다고 진단했습니다. 이러한 차이는 중요합니다. 이처럼 극도로 복잡한 기계를 생산하려면 전문 공급업체들과의 면밀한 조율이 여전히 필요하지만, 조립 처리량을 개선하는 것은 전체 공급망을 재구축하는 것보다 더 관리하기 수월할 수 있기 때문입니다.

For chipmakers such as TSMC, Samsung, Intel, SK Hynix, and Micron, additional EUV availability could support faster construction and ramp-up of advanced fabrication capacity. More machines do not instantly translate into more chips—factories also need buildings, utilities, process equipment, trained personnel, and sufficient yields—but lithography is among the most important pieces of the capacity equation. An expansion by ASML could therefore reduce the risk that EUV availability becomes the decisive bottleneck limiting AI-chip output.

TSMC, 삼성, 인텔, SK하이닉스, 마이크론 같은 칩 제조업체들에게 추가적인 EUV 확보는 첨단 팹(생산 시설) 건설과 가동 확대 속도를 높이는 데 도움이 될 수 있습니다. 장비가 늘어난다고 해서 곧바로 칩 생산량이 증가하는 것은 아닙니다. 공장에는 건물, 유틸리티, 공정 장비, 숙련된 인력, 그리고 충분한 수율도 필요하지만, 노광 장비는 생산 능력 방정식에서 가장 중요한 요소 중 하나입니다. 따라서 ASML의 생산량 확장은 EUV 가용성이 AI 칩 생산을 제한하는 결정적인 병목 현상이 될 위험을 줄여줄 수 있습니다.

The plan also matters because demand is becoming more lithography-intensive. As semiconductor manufacturers move toward smaller process geometries, they generally use EUV on more layers of each chip. Consequently, demand for ASML systems can rise faster than the number of wafers being produced. At the same time, ASML is introducing High-NA EUV, a next-generation technology capable of printing smaller features. Wider High-NA adoption is expected to begin around 2028 and develop more significantly during the following decade, adding another dimension to the company’s expansion.

이 계획이 중요한 또 다른 이유는 수요가 점차 노광 집약적으로 변하고 있기 때문입니다. 반도체 제조업체들이 더 작은 공정 미세화로 이동함에 따라, 일반적으로 각 칩의 더 많은 층에 EUV를 사용하게 됩니다. 결과적으로 ASML 시스템에 대한 수요는 생산되는 웨이퍼 수보다 더 빠르게 증가할 수 있습니다. 동시에 ASML은 더 미세한 회로를 인쇄할 수 있는 차세대 기술인 하이 네(High-NA) EUV를 도입하고 있습니다. High-NA의 광범위한 채택은 2028년경부터 시작되어 다음 십 년 동안 더욱 본격적으로 발전할 것으로 예상되며, 이는 ASML의 확장에 또 다른 차원을 더해줄 것입니다.

There are risks. AI infrastructure spending could slow if customers struggle to earn adequate returns from their enormous capital investments. Semiconductor markets are historically cyclical, so capacity planned during a boom can become excessive if demand weakens. Export restrictions, particularly those affecting sales to China, create further uncertainty. ASML must also avoid compromising quality as it raises output, because an EUV machine contains an immense number of precision components and must perform reliably inside high-volume factories.

물론 위험 요인도 존재합니다. 고객들이 막대한 자본 투자로부터 충분한 수익을 거두지 못할 경우 AI 인프라 지출이 둔화될 수 있습니다. 반도체 시장은 역사적으로 주기성이 강하기 때문에, 호황기에 계획된 생산 능력은 수요가 약화될 경우 과도해질 수 있습니다. 특히 대중(對中) 판매에 영향을 미치는 수출 규제는 추가적인 불확실성을 낳습니다. 또한 ASML은 생산량을 늘리면서 품질을 저해하지 않도록 주의해야 합니다. EUV 장비에는 엄청난 수의 정밀 부품이 포함되어 있으며 대규모 양산 공장 내에서 안정적으로 작동해야 하기 때문입니다.

Bottom line: The proposed target is a powerful signal. ASML is preparing before it holds purchase orders for every potential 2028 system because customer forecasts are strong enough to justify early action. If demand persists, producing more than 110 EUV machines would strengthen the foundations of global AI expansion. It would enable more leading-edge manufacturing, reinforce ASML’s strategic importance, and demonstrate that the AI boom is reshaping not only software and data centers but the industrial infrastructure required to manufacture the computing hardware beneath them.

요약하자면, 이번 제안된 목표는 강력한 신호입니다. ASML은 2028년의 모든 잠재적 시스템에 대한 구매 주문을 확보하기도 전에 준비에 나서고 있는데, 이는 고객사들의 전망이 조기 행동을 정당화할 만큼 충분히 강력하기 때문입니다. 수요가 지속된다면 110대 이상의 EUV 장비 생산은 글로벌 AI 확장의 기반을 한층 더 튼튼하게 만들어 줄 것입니다. 이는 더 많은 최첨단 제조를 가능하게 하고, ASML의 전략적 중요성을 강화하며, AI 붐이 소프트웨어와 데이터 센터뿐만 아니라 그 이면의 컴퓨팅 하드웨어를 제조하는 데 필요한 산업 인프라까지 재편하고 있음을 증명할 것입니다.